Epitaxie GaN pe bază de siliciu

Scurta descriere:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. este un furnizor lider de ceramică semiconductoare avansată și singurul producător din China care poate furniza simultan ceramică cu carbură de siliciu de înaltă puritate (în specialRecristalizat SiC) și acoperire CVD SiC.În plus, compania noastră este, de asemenea, dedicată domeniilor ceramice, cum ar fi alumina, nitrură de aluminiu, zirconiu și nitrură de siliciu etc.

 

Detaliile produsului

Etichete de produs

Descriere produs

Compania noastră oferăAcoperire SiCservicii de procesare prin metoda CVD pe suprafata grafitului, ceramicii si a altor materiale, astfel incat gazele speciale care contin carbon si siliciu sa reactioneze la temperatura ridicata pentru a obtine molecule de SiC de inalta puritate, molecule depuse pe suprafata materialelor acoperite, formandStrat de protecție SIC.

Caracteristici principale:

1. Rezistență la oxidare la temperaturi ridicate:

rezistența la oxidare este încă foarte bună atunci când temperatura este de până la 1600 C.

2. Puritate ridicată: realizat prin depunere chimică de vapori în condiții de clorinare la temperatură ridicată.

3. Rezistență la eroziune: duritate mare, suprafață compactă, particule fine.

4. Rezistență la coroziune: acid, alcali, sare și reactivi organici.

 

Specificații principale ale acoperirii CVD-SIC

Proprietăți SiC-CVD

Structură cristalină

faza β FCC

Densitate

g/cm³

3.21

Duritate

Duritatea Vickers

2500

Marimea unui bob

μm

2~10

Puritatea chimică

%

99,99995

Capacitate termică

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura de sublimare

2700

Forța felexurală

MPa (RT 4 puncte)

415

Modulul Young

Gpa (îndoire 4 pt, 1300 ℃)

430

Expansiune termică (CTE)

10-6K-1

4.5

Conductivitate termică

(W/mK)

300

未标题-1
17
211
Semicera Locul de munca
Locul de muncă semicer 2
Mașină de echipare
Procesare CNN, curățare chimică, acoperire CVD
Serviciul nostru

  • Anterior:
  • Următorul: