Semicerăîși prezintă cu mândrie avangardaGaN Epitaxieservicii, concepute pentru a răspunde nevoilor în continuă evoluție ale industriei semiconductoarelor. Nitrura de galiu (GaN) este un material cunoscut pentru proprietățile sale excepționale, iar procesele noastre de creștere epitaxială asigură că aceste beneficii sunt pe deplin realizate în dispozitivele dumneavoastră.
Straturi GaN de înaltă performanță Semicerăeste specializată în producția de produse de înaltă calitateGaN Epitaxiestraturi, oferind puritate materială și integritate structurală de neegalat. Aceste straturi sunt critice pentru o varietate de aplicații, de la electronica de putere la optoelectronica, unde performanța și fiabilitatea superioare sunt esențiale. Tehnicile noastre de creștere cu precizie asigură că fiecare strat GaN îndeplinește standardele exigente necesare pentru dispozitivele de ultimă generație.
Optimizat pentru eficiențăTheGaN Epitaxiefurnizat de Semicera este conceput special pentru a spori eficiența componentelor dumneavoastră electronice. Prin furnizarea de straturi GaN cu defecte reduse și de înaltă puritate, permitem dispozitivelor să funcționeze la frecvențe și tensiuni mai mari, cu pierderi de putere reduse. Această optimizare este esențială pentru aplicații precum tranzistoarele cu mobilitate ridicată a electronilor (HEMT) și diodele emițătoare de lumină (LED), unde eficiența este primordială.
Potențial de aplicare versatil SemicerăluiGaN Epitaxieeste versatil, găzduind o gamă largă de industrii și aplicații. Indiferent dacă dezvoltați amplificatoare de putere, componente RF sau diode laser, straturile noastre epitaxiale GaN oferă fundația necesară pentru dispozitive de înaltă performanță și fiabile. Procesul nostru poate fi adaptat pentru a îndeplini cerințele specifice, asigurându-vă că produsele dumneavoastră obțin rezultate optime.
Angajamentul față de calitateCalitatea este piatra de temelie aSemicerăabordarea luiGaN Epitaxie. Folosim tehnologii avansate de creștere epitaxială și măsuri riguroase de control al calității pentru a produce straturi de GaN care prezintă o uniformitate excelentă, densități scăzute de defect și proprietăți superioare ale materialului. Acest angajament față de calitate asigură că dispozitivele dumneavoastră nu numai că îndeplinesc, ci și depășesc standardele din industrie.
Tehnici inovatoare de creștere Semicerăeste în fruntea inovației în domeniulGaN Epitaxie. Echipa noastră explorează în mod continuu noi metode și tehnologii pentru a îmbunătăți procesul de creștere, oferind straturi de GaN cu caracteristici electrice și termice îmbunătățite. Aceste inovații se traduc în dispozitive mai performante, capabile să răspundă cerințelor aplicațiilor de ultimă generație.
Soluții personalizate pentru proiectele dvsRecunoscând că fiecare proiect are cerințe unice,Semicerăoferte personalizateGaN Epitaxiesolutii. Indiferent dacă aveți nevoie de profile dopaje specifice, grosimi de strat sau finisaje de suprafață, lucrăm îndeaproape cu dvs. pentru a dezvolta un proces care să răspundă exact nevoilor dvs. Scopul nostru este să vă oferim straturi GaN care sunt proiectate precis pentru a susține performanța și fiabilitatea dispozitivului dvs.
Articole | Productie | Cercetare | Manichin |
Parametrii cristalului | |||
Politip | 4H | ||
Eroare de orientare la suprafață | <11-20 >4±0,15° | ||
Parametrii electrici | |||
Dopant | azot de tip n | ||
Rezistivitate | 0,015-0,025 ohm·cm | ||
Parametri mecanici | |||
Diametru | 150,0±0,2mm | ||
Grosime | 350±25 μm | ||
Orientare plată primară | [1-100]±5° | ||
Lungime plată primară | 47,5±1,5mm | ||
Apartament secundar | Nici unul | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
Arc | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Urzeală | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Rugozitate frontală (Si-face) (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Structura | |||
Densitatea microconductelor | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
Impurități metalice | ≤5E10atomi/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Calitate față | |||
Faţă | Si | ||
Finisaj de suprafață | Si-face CMP | ||
Particule | ≤60ea/napolitana (dimensiune≥0,3μm) | NA | |
Zgârieturi | ≤5ea/mm. Lungime cumulativă ≤Diametru | Lungime cumulativă≤2*Diametru | NA |
Coaja de portocală/sâmburi/pete/striații/crăpături/contaminare | Nici unul | NA | |
Așchii de margine/indentări/fractură/plăci hexagonale | Nici unul | ||
Zone politip | Nici unul | Suprafata cumulata≤20% | Suprafata cumulata≤30% |
Marcaj frontal cu laser | Nici unul | ||
Calitate din spate | |||
Finisaj spate | C-face CMP | ||
Zgârieturi | ≤5ea/mm, lungime cumulativă≤2*Diametru | NA | |
Defecte din spate (așchii de margini/indentări) | Nici unul | ||
Rugozitatea spatelui | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Marcare cu laser pe spate | 1 mm (de la marginea de sus) | ||
Margine | |||
Margine | Teşit | ||
Ambalare | |||
Ambalare | Epi-gata cu ambalare în vid Ambalare casete multi-plachete | ||
*Note: „NA” înseamnă nicio solicitare. Articolele nemenționate se pot referi la SEMI-STD. |