GaN Epitaxie

Scurtă descriere:

GaN Epitaxy este o piatră de temelie în producția de dispozitive semiconductoare de înaltă performanță, oferind eficiență, stabilitate termică și fiabilitate excepționale. Soluțiile GaN Epitaxy de la Semicera sunt adaptate pentru a răspunde cerințelor aplicațiilor de ultimă oră, asigurând calitate superioară și consistență în fiecare strat.


Detaliu produs

Etichete de produs

Semicerăîși prezintă cu mândrie avangardaGaN Epitaxieservicii, concepute pentru a răspunde nevoilor în continuă evoluție ale industriei semiconductoarelor. Nitrura de galiu (GaN) este un material cunoscut pentru proprietățile sale excepționale, iar procesele noastre de creștere epitaxială asigură că aceste beneficii sunt pe deplin realizate în dispozitivele dumneavoastră.

Straturi GaN de înaltă performanță Semicerăeste specializată în producția de produse de înaltă calitateGaN Epitaxiestraturi, oferind puritate materială și integritate structurală de neegalat. Aceste straturi sunt critice pentru o varietate de aplicații, de la electronica de putere la optoelectronica, unde performanța și fiabilitatea superioare sunt esențiale. Tehnicile noastre de creștere cu precizie asigură că fiecare strat GaN îndeplinește standardele exigente necesare pentru dispozitivele de ultimă generație.

Optimizat pentru eficiențăTheGaN Epitaxiefurnizat de Semicera este conceput special pentru a spori eficiența componentelor dumneavoastră electronice. Prin furnizarea de straturi GaN cu defecte reduse și de înaltă puritate, permitem dispozitivelor să funcționeze la frecvențe și tensiuni mai mari, cu pierderi de putere reduse. Această optimizare este esențială pentru aplicații precum tranzistoarele cu mobilitate ridicată a electronilor (HEMT) și diodele emițătoare de lumină (LED), unde eficiența este primordială.

Potențial de aplicare versatil SemicerăluiGaN Epitaxieeste versatil, găzduind o gamă largă de industrii și aplicații. Indiferent dacă dezvoltați amplificatoare de putere, componente RF sau diode laser, straturile noastre epitaxiale GaN oferă fundația necesară pentru dispozitive de înaltă performanță și fiabile. Procesul nostru poate fi adaptat pentru a îndeplini cerințele specifice, asigurându-vă că produsele dumneavoastră obțin rezultate optime.

Angajamentul față de calitateCalitatea este piatra de temelie aSemicerăabordarea luiGaN Epitaxie. Folosim tehnologii avansate de creștere epitaxială și măsuri riguroase de control al calității pentru a produce straturi de GaN care prezintă o uniformitate excelentă, densități scăzute de defect și proprietăți superioare ale materialului. Acest angajament față de calitate asigură că dispozitivele dumneavoastră nu numai că îndeplinesc, ci și depășesc standardele din industrie.

Tehnici inovatoare de creștere Semicerăeste în fruntea inovației în domeniulGaN Epitaxie. Echipa noastră explorează în mod continuu noi metode și tehnologii pentru a îmbunătăți procesul de creștere, oferind straturi de GaN cu caracteristici electrice și termice îmbunătățite. Aceste inovații se traduc în dispozitive mai performante, capabile să răspundă cerințelor aplicațiilor de ultimă generație.

Soluții personalizate pentru proiectele dvsRecunoscând că fiecare proiect are cerințe unice,Semicerăoferte personalizateGaN Epitaxiesolutii. Indiferent dacă aveți nevoie de profile dopaje specifice, grosimi de strat sau finisaje de suprafață, lucrăm îndeaproape cu dvs. pentru a dezvolta un proces care să răspundă exact nevoilor dvs. Scopul nostru este să vă oferim straturi GaN care sunt proiectate precis pentru a sprijini performanța și fiabilitatea dispozitivului dvs.

Articole

Productie

Cercetare

Manichin

Parametrii cristalului

Politip

4H

Eroare de orientare la suprafață

<11-20 >4±0,15°

Parametrii electrici

Dopant

azot de tip n

Rezistivitate

0,015-0,025 ohm·cm

Parametri mecanici

Diametru

150,0±0,2mm

Grosime

350±25 μm

Orientare plată primară

[1-100]±5°

Lungime plată primară

47,5±1,5mm

Apartament secundar

Nici unul

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Arc

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Urzeală

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugozitate frontală (Si-face) (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Structura

Densitatea microconductelor

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Impurități metalice

≤5E10atomi/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Calitate față

Faţă

Si

Finisaj de suprafață

Si-face CMP

Particule

≤60ea/napolitana (dimensiune≥0,3μm)

NA

Zgârieturi

≤5ea/mm. Lungime cumulativă ≤Diametru

Lungime cumulativă≤2*Diametru

NA

Coaja de portocală/sâmburi/pete/striații/crăpături/contaminare

Nici unul

NA

Așchii de margine/indentări/fractură/plăci hexagonale

Nici unul

Zone politip

Nici unul

Suprafata cumulata≤20%

Suprafata cumulata≤30%

Marcaj frontal cu laser

Nici unul

Calitate din spate

Finisaj spate

C-face CMP

Zgârieturi

≤5ea/mm, lungime cumulativă≤2*Diametru

NA

Defecte din spate (așchii de margini/indentări)

Nici unul

Rugozitatea spatelui

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Marcare cu laser pe spate

1 mm (de la marginea de sus)

Margine

Margine

Teşitură

Ambalare

Ambalare

Epi-gata cu ambalare în vid

Ambalare casete multi-plachete

*Note: „NA” înseamnă nicio solicitare. Articolele nemenționate se pot referi la SEMI-STD.

tech_1_2_size
Napolitane SiC

  • Anterior:
  • Următorul: