Acoperire CVD TaC

Introducere în acoperirea CVD TaC:

Acoperirea CVD TaC este o tehnologie care utilizează depunerea chimică în vapori pentru a depune acoperirea cu carbură de tantal (TaC) pe suprafața unui substrat. Carbura de tantal este un material ceramic de înaltă performanță, cu proprietăți mecanice și chimice excelente. Procesul CVD generează o peliculă uniformă de TaC pe suprafața substratului prin reacția gazului.

Caracteristici principale:

Duritate excelentă și rezistență la uzură: Carbura de tantal are o duritate extrem de mare, iar acoperirea CVD TaC poate îmbunătăți semnificativ rezistența la uzură a substratului. Acest lucru face ca acoperirea să fie ideală pentru aplicații în medii cu uzură ridicată, cum ar fi sculele de tăiere și matrițele.

Stabilitate la temperaturi ridicate: Acoperirile TaC protejează componentele critice ale cuptorului și reactorului la temperaturi de până la 2200°C, demonstrând o bună stabilitate. Menține stabilitatea chimică și mecanică în condiții de temperatură extremă, făcându-l potrivit pentru procesarea la temperatură înaltă și aplicații în medii cu temperatură înaltă.

Stabilitate chimică excelentă: Carbura de tantal are o rezistență puternică la coroziune la majoritatea acizilor și alcalinelor, iar acoperirea CVD TaC poate preveni eficient deteriorarea substratului în medii corozive.

Punct de topire ridicat: Carbura de tantal are un punct de topire ridicat (aproximativ 3880°C), permițând acoperirea CVD TaC să fie utilizată în condiții de temperatură extrem de ridicată, fără a se topi sau degrada.

Conductivitate termică excelentă: Acoperirea TaC are o conductivitate termică ridicată, ceea ce ajută la disiparea eficientă a căldurii în procesele la temperatură ridicată și la prevenirea supraîncălzirii locale.

Aplicații potențiale:

• Componente ale reactoarelor CVD epitaxiale cu nitrură de galiu (GaN) și carbură de siliciu, inclusiv suporturi de placă, antene satelit, capete de duș, tavane și susceptori

• Componente de creștere a cristalelor cu carbură de siliciu, nitrură de galiu și nitrură de aluminiu (AlN), inclusiv creuzete, suporturi pentru semințe, inele de ghidare și filtre

• Componente industriale, inclusiv elemente de încălzire cu rezistență, duze de injecție, inele de mascare și dispozitive de lipire

Caracteristicile aplicației:

• Temperatură stabilă peste 2000°C, permițând funcționarea la temperaturi extreme
• Rezistent la hidrogen (Hz), amoniac (NH3), monosilan (SiH4) și siliciu (Si), oferind protecție în medii chimice dure
• Rezistenta sa la socuri termice permite cicluri de operare mai rapide
• Grafitul are o aderență puternică, asigurând o durată de viață lungă și fără delaminare a stratului de acoperire.
• Puritate ultra-înaltă pentru a elimina impuritățile sau contaminanții inutile
• Acoperire de acoperire conformă la toleranțe dimensionale strânse

Specificatii tehnice:

Prepararea acoperirilor dense de carbură de tantal prin CVD：

Acoperire TAC cu cristalinitate ridicată și uniformitate excelentă:

CVD TAC COATING Parametri tehnici_Semiceră:

Cele de mai sus sunt valori tipice.