Substraturi din carbură de siliciu|Napolitane SiC

Scurtă descriere:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. este un furnizor de frunte specializat în consumabile pentru napolitane și semiconductoare avansate. Suntem dedicați furnizării de produse de înaltă calitate, fiabile și inovatoare pentru producția de semiconductori, industria fotovoltaică și alte domenii conexe.

Linia noastră de produse include produse din grafit acoperite cu SiC/TaC și produse ceramice, cuprinzând diverse materiale, cum ar fi carbură de siliciu, nitrură de siliciu și oxid de aluminiu etc.

În prezent, suntem singurul producător care oferă puritate 99,9999% SiC și 99,9% carbură de siliciu recristalizată. Lungimea maximă a stratului de SiC pe care o putem face 2640 mm.

 

Detaliu produs

Etichete de produs

SiC-Wafer

Materialul monocristal de carbură de siliciu (SiC) are o lățime mare de bandă interzisă (~Si de 3 ori), conductivitate termică ridicată (~Si de 3,3 ori sau GaAs de 10 ori), rată mare de migrare a saturației electronilor (~Si de 2,5 ori), electricitate mare de defalcare câmp (~Si de 10 ori sau GaAs de 5 ori) și alte caracteristici remarcabile.

Dispozitivele SiC au avantaje de neînlocuit în domeniul dispozitivelor electronice cu temperatură ridicată, presiune înaltă, frecvență înaltă, putere mare și aplicații extreme de mediu, cum ar fi energia aerospațială, militară, nucleară etc., compensează defectele dispozitivelor tradiționale cu materiale semiconductoare în practică. aplicații și devin treptat curentul principal al semiconductorilor de putere.

Specificații substratului cu carbură de siliciu 4H-SiC

Item项目

Specificații参数

Politip
晶型

4H-SiC

6H- SiC

Diametru
晶圆直径

2 inch | 3 inci | 4 inch | 6 inch

2 inch | 3 inci | 4 inch | 6 inch

Grosime
厚度

330 μm ~ 350 μm

330 μm ~ 350 μm

Conductivitate
导电类型

N – tip / Semiizolant
N型导电片/ 半绝缘片

N – tip / Semiizolant
N型导电片/ 半绝缘片

Dopant
掺杂剂

N2 ( azot ) V ( vanadiu )

N2 (azot) V (vanadiu)

Orientare
晶向

Pe axa <0001>
În afara axei <0001> off 4°

Pe axa <0001>
În afara axei <0001> off 4°

Rezistivitate
电阻率

0,015 ~ 0,03 ohm-cm
(4H-N)

0,02 ~ 0,1 ohm-cm
(6H-N)

Densitatea microconductelor (MPD)
微管密度

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

≤ 15 μm

Arc / Urzeală
翘曲度

≤25 μm

≤25 μm

Suprafaţă
表面处理

DSP/SSP

DSP/SSP

Nota
产品等级

Grad producție/cercetare

Grad producție/cercetare

Secvența de stivuire a cristalelor
堆积方式

ABCB

ABCABC

Parametrul rețelei
晶格参数

a=3,076A, c=10,053A

a=3,073A, c=15,117A

De exemplu/eV(Band-gap)
禁带宽度

3,27 eV

3,02 eV

ε (constantă dielectrică)
介电常数

9.6

9,66

Indicele de refracție
折射率

n0 =2,719 ne =2,777

n0 =2,707, ne =2,755

Specificații substratului de carbură de siliciu 6H-SiC

Item项目

Specificații参数

Politip
晶型

6H-SiC

Diametru
晶圆直径

4 inch | 6 inch

Grosime
厚度

350μm ~ 450μm

Conductivitate
导电类型

N – tip / Semiizolant
N型导电片/ 半绝缘片

Dopant
掺杂剂

N2 (azot)
V (vanadiu)

Orientare
晶向

<0001> oprit 4°± 0,5°

Rezistivitate
电阻率

0,02 ~ 0,1 ohm-cm
(Tipul 6H-N)

Densitatea microconductelor (MPD)
微管密度

≤ 10/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

Arc / Urzeală
翘曲度

≤25 μm

Suprafaţă
表面处理

Si Face: CMP, Epi-Ready
C Față: Polish optic

Nota
产品等级

Nota de cercetare

Semicera Locul de munca Locul de muncă semicer 2 Mașină de echipare Procesare CNN, curățare chimică, acoperire CVD Serviciul nostru


  • Anterior:
  • Următorul: