Si Substrate

Scurtă descriere:

Cu precizia superioară și puritatea sa ridicată, substratul Si de la Semicera asigură performanțe fiabile și consecvente în aplicații critice, inclusiv fabricarea Epi-Wafer și oxid de galiu (Ga2O3). Conceput pentru a susține producția de microelectronice avansate, acest substrat oferă o compatibilitate și o stabilitate excepționale, făcându-l un material esențial pentru tehnologiile de ultimă oră din telecomunicații, automobile și sectoarele industriale.


Detaliu produs

Etichete de produs

Substratul Si de la Semicera este o componentă esențială în producția de dispozitive semiconductoare de înaltă performanță. Conceput din silicon (Si) de înaltă puritate, acest substrat oferă uniformitate, stabilitate și conductivitate excelentă, făcându-l ideal pentru o gamă largă de aplicații avansate în industria semiconductoarelor. Indiferent dacă este utilizat în producția de Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer sau SiN Substrate, Semicera Si Substrate oferă o calitate constantă și performanță superioară pentru a satisface cerințele în creștere ale electronicii moderne și ale științei materialelor.

Performanță de neegalat cu puritate și precizie ridicate

Substratul Si de la Semicera este fabricat folosind procese avansate care asigură puritate ridicată și control dimensional strâns. Substratul servește drept bază pentru producerea unei varietăți de materiale de înaltă performanță, inclusiv Epi-Wafers și AlN Wafers. Precizia și uniformitatea substratului Si îl fac o alegere excelentă pentru crearea de straturi epitaxiale cu peliculă subțire și alte componente critice utilizate în producția de semiconductori de ultimă generație. Indiferent dacă lucrați cu oxid de galiu (Ga2O3) sau cu alte materiale avansate, substratul Si de la Semicera asigură cele mai înalte niveluri de fiabilitate și performanță.

Aplicații în fabricarea semiconductoarelor

În industria semiconductoarelor, substratul Si de la Semicera este utilizat într-o gamă largă de aplicații, inclusiv producția de Si Wafer și SiC Substrate, unde oferă o bază stabilă și fiabilă pentru depunerea straturilor active. Substratul joacă un rol critic în fabricarea SOI Wafers (Silicon On Insulator), care sunt esențiale pentru microelectronica avansată și circuitele integrate. Mai mult, Epi-Wafer-urile (plachete epitaxiale) construite pe substraturi de Si sunt esențiale în producerea de dispozitive semiconductoare de înaltă performanță, cum ar fi tranzistoare de putere, diode și circuite integrate.

Substratul Si sprijină, de asemenea, fabricarea de dispozitive folosind oxid de galiu (Ga2O3), un material promițător cu bandă interzisă utilizat pentru aplicații de mare putere în electronica de putere. În plus, compatibilitatea substratului Si al Semicera cu AlN Wafers și alte substraturi avansate asigură că acesta poate îndeplini cerințele diverse ale industriilor de înaltă tehnologie, făcându-l o soluție ideală pentru producția de dispozitive de ultimă generație în sectoarele telecomunicațiilor, auto și industrial. .

Calitate fiabilă și consecventă pentru aplicații de înaltă tehnologie

Substratul Si de la Semicera este proiectat cu atenție pentru a satisface cerințele riguroase ale fabricării semiconductoarelor. Integritatea sa structurală excepțională și proprietățile de suprafață de înaltă calitate îl fac materialul ideal pentru utilizarea în sistemele de casete pentru transportul plachetelor, precum și pentru crearea de straturi de înaltă precizie în dispozitivele semiconductoare. Capacitatea substratului de a menține o calitate constantă în diferite condiții de proces asigură defecte minime, sporind randamentul și performanța produsului final.

Cu conductivitate termică superioară, rezistență mecanică și puritate ridicată, substratul Si de la Semicera este materialul ales pentru producătorii care doresc să atingă cele mai înalte standarde de precizie, fiabilitate și performanță în producția de semiconductori.

Alegeți substratul Si de la Semicera pentru soluții de înaltă puritate, de înaltă performanță

Pentru producătorii din industria semiconductoarelor, substratul Si de la Semicera oferă o soluție robustă, de înaltă calitate, pentru o gamă largă de aplicații, de la producția de Si Wafer până la crearea de Epi-Wafers și SOI Wafers. Cu o puritate, precizie și fiabilitate de neegalat, acest substrat permite producerea de dispozitive semiconductoare de ultimă generație, asigurând performanță pe termen lung și eficiență optimă. Alegeți Semicera pentru nevoile dvs. de substrat Si și aveți încredere într-un produs conceput pentru a răspunde cerințelor tehnologiilor de mâine.

Articole

Productie

Cercetare

Manichin

Parametrii cristalului

Politip

4H

Eroare de orientare la suprafață

<11-20 >4±0,15°

Parametrii electrici

Dopant

azot de tip n

Rezistivitate

0,015-0,025 ohm·cm

Parametri mecanici

Diametru

150,0±0,2mm

Grosime

350±25 μm

Orientare plată primară

[1-100]±5°

Lungime plată primară

47,5±1,5mm

Apartament secundar

Nici unul

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Arc

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Urzeală

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugozitate frontală (Si-face) (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Structura

Densitatea microconductelor

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Impurități metalice

≤5E10atomi/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Calitate față

Faţă

Si

Finisaj de suprafață

Si-face CMP

Particule

≤60ea/napolitana (dimensiune≥0,3μm)

NA

Zgârieturi

≤5ea/mm. Lungime cumulativă ≤Diametru

Lungime cumulativă≤2*Diametru

NA

Coaja de portocală/sâmburi/pete/striații/crăpături/contaminare

Nici unul

NA

Așchii de margine/indentări/fractură/plăci hexagonale

Nici unul

Zone politip

Nici unul

Suprafata cumulata≤20%

Suprafata cumulata≤30%

Marcaj frontal cu laser

Nici unul

Calitate din spate

Finisaj spate

C-face CMP

Zgârieturi

≤5ea/mm, lungime cumulativă≤2*Diametru

NA

Defecte din spate (așchii de margini/indentări)

Nici unul

Rugozitatea spatelui

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Marcare cu laser pe spate

1 mm (de la marginea de sus)

Margine

Margine

Teşit

Ambalare

Ambalare

Epi-gata cu ambalare în vid

Ambalare casete multi-plachete

*Note: „NA” înseamnă nicio solicitare. Articolele nemenționate se pot referi la SEMI-STD.

tech_1_2_size
Napolitane SiC

  • Anterior:
  • Următorul: