Substrat SiC de tip N de 4 inchi

Scurtă descriere:

Substraturile SiC de tip N de 4 inchi de la Semicera sunt proiectate meticulos pentru performanțe electrice și termice superioare în electronica de putere și aplicațiile de înaltă frecvență. Aceste substraturi oferă o conductivitate și stabilitate excelente, făcându-le ideale pentru dispozitivele semiconductoare de ultimă generație. Aveți încredere în Semicera pentru precizie și calitate în materiale avansate.


Detaliu produs

Etichete de produs

Substraturile SiC de tip N de 4 inchi de la Semicera sunt create pentru a îndeplini standardele exigente ale industriei semiconductoarelor. Aceste substraturi oferă o bază de înaltă performanță pentru o gamă largă de aplicații electronice, oferind o conductivitate și proprietăți termice excepționale.

Dopajul de tip N a acestor substraturi de SiC le îmbunătățește conductivitatea electrică, făcându-le deosebit de potrivite pentru aplicații de mare putere și de înaltă frecvență. Această proprietate permite funcționarea eficientă a dispozitivelor precum diode, tranzistoare și amplificatoare, unde minimizarea pierderilor de energie este crucială.

Semicera utilizează procese de producție de ultimă generație pentru a se asigura că fiecare substrat prezintă o calitate excelentă a suprafeței și uniformitate. Această precizie este critică pentru aplicațiile din electronica de putere, dispozitivele cu microunde și alte tehnologii care necesită performanță fiabilă în condiții extreme.

Încorporarea substraturilor SiC de tip N de la Semicera în linia dumneavoastră de producție înseamnă să beneficiați de materiale care oferă o disipare superioară a căldurii și stabilitate electrică. Aceste substraturi sunt ideale pentru a crea componente care necesită durabilitate și eficiență, cum ar fi sistemele de conversie a puterii și amplificatoarele RF.

Alegând substraturile SiC de tip N de 4 inchi de la Semicera, investiți într-un produs care combină știința materialelor inovatoare cu măiestria meticuloasă. Semicera continuă să conducă industria prin furnizarea de soluții care sprijină dezvoltarea tehnologiilor de ultimă oră a semiconductoarelor, asigurând performanță și fiabilitate ridicate.

Articole

Productie

Cercetare

Manichin

Parametrii cristalului

Politip

4H

Eroare de orientare la suprafață

<11-20 >4±0,15°

Parametrii electrici

Dopant

azot de tip n

Rezistivitate

0,015-0,025 ohm·cm

Parametri mecanici

Diametru

150,0±0,2mm

Grosime

350±25 μm

Orientare plată primară

[1-100]±5°

Lungime plată primară

47,5±1,5mm

Apartament secundar

Nici unul

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Arc

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Urzeală

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Rugozitate frontală (Si-face) (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Structura

Densitatea microconductelor

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Impurități metalice

≤5E10atomi/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Calitate față

Faţă

Si

Finisaj de suprafață

Si-face CMP

Particule

≤60ea/napolitana (dimensiune≥0,3μm)

NA

Zgârieturi

≤5ea/mm. Lungime cumulativă ≤Diametru

Lungime cumulativă≤2*Diametru

NA

Coaja de portocală/sâmburi/pete/striații/crăpături/contaminare

Nici unul

NA

Așchii de margine/indentări/fractură/plăci hexagonale

Nici unul

Zone politip

Nici unul

Suprafata cumulata≤20%

Suprafata cumulata≤30%

Marcaj frontal cu laser

Nici unul

Calitate din spate

Finisaj spate

C-face CMP

Zgârieturi

≤5ea/mm, lungime cumulativă≤2*Diametru

NA

Defecte din spate (așchii de margini/indentări)

Nici unul

Rugozitatea spatelui

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Marcare cu laser pe spate

1 mm (de la marginea de sus)

Margine

Margine

Teşitură

Ambalare

Ambalare

Epi-gata cu ambalare în vid

Ambalare casete multi-plachete

*Note: „NA” înseamnă nicio solicitare. Articolele nemenționate se pot referi la SEMI-STD.

tech_1_2_size
Napolitane SiC

  • Anterior:
  • Următorul: